影响抛釉砖缺陷的因素及解决方法
周燕 丘云灵 金国庭
摘 要：抛釉砖色彩丰富、色泽明亮，比抛光砖装饰效果更丰富、比仿古砖光泽更多变、比瓷片更耐污，由于适用于多种装饰场合而越来越深受消费者的喜爱。但因其透明釉与坯体存在膨胀系数差异、熔融温度差异，以及使用弹性软质模块进行抛磨等原因，所以容易在其表面产生波浪纹等缺陷。本文简单分析了影响抛釉砖表面不平整的因素以及解决产品缺陷的原因，希望能给同行提供一些帮助。
关键词：抛釉砖；不平整；缺陷；原因
1 前言
抛釉砖也叫全抛釉砖，是近年来新兴的一种建筑陶瓷产品，其集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势，是在砖坯表面装饰印花后，施以透明釉烧制抛光而成的，因表层透明釉的折射效果，其产品兼具釉面砖哑色暗光的含蓄性，并有抛光砖的光泽度、瓷质砖的硬度，解决了半抛砖易藏污的缺陷。同时也拥有仿古砖的釉面高仿天然纹理效果，以及瓷片釉面丰富的印花装饰效果。随着装饰手段的多样化和工艺技术的不断进步，其市场份额占有率也逐步提高。但目前生产工艺中因抛釉砖产品表面透明釉层硬度不及抛光砖，因而在抛光工序中不能采用同抛光砖完全相同的硬质模块进行抛磨，而只能采用具弹性变形的软质模块进行抛磨，否则会出现表面划痕、刮花等问题。
2 抛釉砖现有抛光工艺缺陷
由于采用弹性软质模块进行抛光工序生产，在整个抛光过程中的抛削量非常小，如表面透明釉层不平则会出现抛磨后的水波纹、表面波浪形等缺陷。瓷砖表面不平整，在整体铺贴使用时，会影响装饰美观性和整体感。而瓷砖存在波浪形在凸出与凹陷部位会产生不同的光线折射，进而使得花纹立体感减弱，不够统一和谐。
另外，产品在烧制过程中会产生辊棒印，进而影响到砖的平整度，最终使得抛磨时产生点接触、线接触而非面接触，从而导致软抛后釉表面凹凸不平。
3 影响抛釉砖不平整的因素及解决方法
3.1 影响抛釉砖超平化工艺的主要因素
影响抛釉砖超平化工艺的主要因素如表1所示。
3.1.1压机工序调整
由于水波纹的凹坑在方格纹的经上，采用经纬纹底模后可减少水波纹的深度从而减少因辊棒印所引起的表面抛磨后不平现象。另外，由于方格纹的筋致密度低，导致凹坑，为了减少筋与格子致密度差的问题，可将压机压力稍微降低，从而改善表面平整度。
3.1.2釉线工序调整
在抛釉量较少的情况下，当透明釉配方为偏高温时，会在釉层内产生较多毛孔，因而无法生产深色产品。可以采取更换低温透明釉，并采取增加抛釉量的方法加大抛光压力，减少毛孔与水波纹，增加砖面平整度。
3.1.3釉线工序调整
当窑炉前温排烟管粗、抽热量大、前温高、正压小时，砖氧化效果好，侧边针孔少，进而砖面平整度高，抛光后不易产生波浪纹。另一方面，可以优化烧成窑炉烧成曲线，提高窑炉前温，拉长窑炉氧化时间，降低最高温度，从而减少辊棒印，以提高砖面平整度。
3.1.4抛光工序调整
更换粗抛硬质磨块，加大磨盘压力，可解决水波纹问题。但同时需要增加施釉量，避免出现过抛现象。由于淋釉量较厚，透明釉需经过两次淋釉而成，并且两次淋釉过程中有干燥步骤，因而透明釉层能够完全干燥，在烧制过程中不会发生裂痕，烧制后经非弹性模块抛磨后能够保证抛釉砖的表面平整度，不会产生波浪纹。
3.1.5透明釉配方改进
在高温烧成时，坯釉中的有机物氧化会释放出气体，如果在釉熔化之前气体没有排除干净，釉面就会产生许多毛孔；如果釉熔化后，表面张力过大，也会导致釉面产生水波纹或橘皮状，影响美观。因而调节釉料配方使之与坯体膨胀系数相适应，并通过改善透明釉层的性能，从而对提高瓷砖表面平整度是非常必要的。如在透明釉配方中加入微晶细粉，或者降低配方中熔剂的含量并提高氧化铝的含量，可以调节釉的始熔温度，便于气体完全排除。
3.1.6增加保护釉层
增加一层始熔点比透明釉始熔点低的保护釉后，保护釉在烧制过程中先熔融，产生玻璃相压制住砖坯烧成过程中分解产生的气体，使得透明釉层无法形成针孔及小气泡等缺陷，进而提高釉面的平整度。
另外就是增加一层高温黏度大的保护釉，由于高温下黏度大，因而可以阻止底层气体排出，从而解决釉面针孔凹釉等缺陷，并在淋保护釉后通过素烧使得砖坯釉面更好地吸收釉料和减少釉层气泡。在素烧的过程中水分有机物挥发，结合保护釉在烧制过程中对底层气体的压制作用，避免坯体气体蒸发形成气孔，并降低坯体水分，也可防止在烧成过程中产生裂纹甚至炸坯。另外，淋透明釉过程中砖面对釉的吸收更充分，也能减少釉层凹釉，从而解决系列生产工艺稳定性问题，并且保证釉面的平整，烧制后的产品由于印花层上的保护釉层与透明釉层厚度较厚和平整，因而可以采用非弹性模块进行抛磨，从而保证其表面的超平和镜面效果。
4 结论
抛釉砖在生产过程中影响其表面平整度的因素有很多，我们应结合实际情况，从细节出发，全面分析，找出对应的原因，从而彻底解决抛釉砖表面平整度的问题，减少产品的缺陷，提高产品的优等率，使陶瓷企业生产效益最大化。
