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标题 Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量
范文

    国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试,检测结果与客户化学法基本一致。

    仪器特点

    Plasma3000型和Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪(钢研纳克检测技术股份有限公司)是使用方便、操作简单、测试快速的全谱ICP-OES分析仪,具有良好的分析精度和稳定性。

    Plasma3000

    高效固态射频发生器,超高稳定光源;

    大面积背照式CCD芯片,宽动态范围;

    中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧;

    多元素同时分析,全谱瞬态直读。

    多种进样系统,可选择性好;

    垂直炬管,双向观测,检出限更加理想;

    Plasma2000

    高效固态射频发生器,超高穩定光源;

    大面积背照式CCD芯片,宽动态范围;

    中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧;

    多元素同时分析,全谱瞬态直读;

    多种进样系统,可选择性好;

    垂直炬管水平观测,耐盐性更佳。

    使用Plasma3000和Plasma2000能够很好的解决工业硅中杂质元素分析问题,完全满足国家标准GB/T2881-2014《工业硅》和GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》要求。

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更新时间:2025/3/14 22:52:53