标题 | Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量 |
范文 | 国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试,检测结果与客户化学法基本一致。 仪器特点 Plasma3000型和Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪(钢研纳克检测技术股份有限公司)是使用方便、操作简单、测试快速的全谱ICP-OES分析仪,具有良好的分析精度和稳定性。 Plasma3000 高效固态射频发生器,超高稳定光源; 大面积背照式CCD芯片,宽动态范围; 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧; 多元素同时分析,全谱瞬态直读。 多种进样系统,可选择性好; 垂直炬管,双向观测,检出限更加理想; Plasma2000 高效固态射频发生器,超高穩定光源; 大面积背照式CCD芯片,宽动态范围; 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,体积小巧; 多元素同时分析,全谱瞬态直读; 多种进样系统,可选择性好; 垂直炬管水平观测,耐盐性更佳。 使用Plasma3000和Plasma2000能够很好的解决工业硅中杂质元素分析问题,完全满足国家标准GB/T2881-2014《工业硅》和GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》要求。 |
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