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标题 铜铟镓硒靶材金属化层制备方法
范文 专利名称:铜铟镓硒靶材金属化层制备方法
专利申请号:2015102328142
公布号:CN106180721A
申请日:2015.05.08 公开日:2016.12.07
申请人:北京有色金属研究总院
本发明涉及一种铜铟镓硒靶材金属化层制备方法,在制备铜铟镓硒靶材的同时制备金属化层,属于有色金属加工领域.先将石墨垫板置于热压炉模具的下压头上,再将金属片放在石墨垫板上,放入铜铟镓硒粉料,再放入上压头,将模具放于热压炉中进行热压烧结,在升温的同时加压,进行保温保压,然后冷却至室温;然后,将靶材从热压炉中取出,先加工靶面,然后加工金属化层,根据需要的金属化层的厚度确定加工量.本发明方法得到的铜铟镓硒靶材金属化层易于钎焊;导电、导热性能好;成本低,与靶材制备过程同步,大大降低了生產成本.
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更新时间:2025/3/13 10:13:39